Alle 400 Einheiten sind 240 V, 300 W, 10 mm Durchmesser x 200 mm lang, aus hochreinem Edelstahl 316L gefertigt und mit einer hochglanzpolierten Oberfläche versehen, um eine Partikelkontamination in der Reinraumumgebung zu verhindern. Die Heizgeräte verfügen über eine extrem niedrige Wattdichte von 4 W/cm², was eine präzise Temperaturregelung innerhalb von ±0,2 Grad - gewährleistet, was für den Wafer-Verarbeitungsprozess wichtig ist, der extrem stabile Temperaturen erfordert, um die Qualität der Halbleiterchips sicherzustellen.
Der Kunde ist ein führender Hersteller von Wafer-Verarbeitungsanlagen in den Niederlanden und liefert Anlagen an Halbleiterfabriken in ganz Europa. Sie benötigten Heizgeräte, die den strengen Sauberkeitsanforderungen der Halbleiterindustrie gerecht werden und selbst bei hohen Temperaturen keine Ausgasung oder Partikelbildung aufweisen. Unser Ingenieurteam arbeitete eng mit dem Kunden zusammen, um die Heizgeräte so zu gestalten, dass sie seinen spezifischen Anforderungen gerecht werden, einschließlich der Verwendung hochreiner Materialien und eines speziellen Reinigungsverfahrens zur Entfernung jeglicher Verunreinigungen von der Oberfläche der Heizgeräte.
Die letzte Bearbeitungsstufe umfasst das Präzisionsschleifen des Heizkörperdurchmessers, um die vom Kunden geforderten engen Toleranzen mit einer Toleranz von ±0,01 mm beim Durchmesser und ±0,1 mm bei der Länge zu erreichen. Unser Team verwendet CNC-Schleifmaschinen, um sicherzustellen, dass alle Einheiten die angegebenen Toleranzen einhalten, und führt bei jeder Einheit eine 100-prozentige Maßprüfung durch. Bisher haben wir die Bearbeitung von 250 der 400 Einheiten abgeschlossen und alle haben die Maßprüfung bestanden, wobei alle Abmessungen innerhalb der angegebenen Toleranzen liegen.
